Cena za komplet ( 2 sztuki )
Klasa ochrony: ABEK1
Ochrona: pary organiczne, gazy nieorganiczne, kwaśne oraz amoniakowi
3M™ 6059 Podstawowe cechy:
- lekkie;
- niskie opory oddychania;
- dobrze wyważone po zamocowaniu do części twarzowej;
- unikalny trapezoidalny kształt nie ogranicza pola widzenia;
- system łączników bagnetowych zapewnia precyzję i niezawodność mocowania;
- uniwersalne zastosowanie: można używać ze wszystkimi półmaskami i maskami serii 3M 6000 oraz półmaskami serii 7500;
- wszystkie pochłaniacze serii 3M 6000 mogą być stosowane w połączeniu z filtrami serii 3M 5000 chroniącymi przed cząstkami stałymi;
- oznaczone EN141/CE;
- stosowane z półmaskami i maskami pełnymi:
Zastosowanie poszczególnych klas pochłaniaczy
POCHŁANIACZ
|
ZAGROŻENIA |
PRZYKŁADOWE APLIKACJE
|
6051 A1
6055 A2
EN141 |
Pary organiczne
|
- Wszędzie, gdzie stosuje się tradycyjne farby (w zależności od warunków zastosowania)
- Produkcja pojazdów
- Produkcja samolotów i modernizacja
- Budowa łodzi
- Produkcja atramentów i barwników oraz ich stosowanie
- Wytwarzanie i stosowanie materiałów samoprzylepnych
- Produkcja farb i lakierów
- Wytwarzanie i stosowanie żywic
|
6054 K1
EN141 |
Amoniak i pochodne amoniaku
|
- Produkcja i konserwacja sprzętu chłodniczego
- Agrochemia
|
6057 ABE1
EN141 |
Pary organiczne, gazy nieorganiczne, gazy kwaśne
|
Jak 6051 oraz:
- Procesy elektrolityczne
- Czyszczenie kwasowe
- Wytrawianie metali
- Trawienie metali
- Występowanie chloru, wybielaczy, chlorowodoru, dwutlenku siarki, siarkowodoru, rozpuszczalników
|
6059 ABEK1
EN141 |
Pary organiczne, gazy nieorganiczne, gazy kwaśne, amoniak i pochodne
|
- Tak jak 6054 i 6057
|
6096 HgP3
EN141 i EN143
|
Pary rtęci, chlor i pyły |
- Laboratoria (występownie par rtęci i chloru)
- Występowanie cząstek stałych
|
6098 AXP3
EN371 i EN143 |
Pary organiczne (temperatura wrzenia < 65°C) i cząstki (do użytku wyłącznie z maską pełną)
|
- Występowanie acetonu, acetaldehydu, eteru metylowego, izobutanu oraz pyłów
|
6099 ABEK2P3
EN141 i EN143 |
Pary organiczne, gazy nieorganiczne, gazy kwaśne, amoniak i pochodne amoniaku oraz pyły (do użytku wyłącznie z maską pełną) |
- Występowanie rozpuszczalników (etylometyloketon, toulen, ...)
- Występowanie chloru, wybielaczy, chlorowodoru, dwutlenku siarki, siarkowodoru, amoniaku, metyloaminy oraz pyłów |
